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高純試劑根據專用范圍分類
  • 更新日期:2023-06-29      瀏覽次數:1382
    • 目前,除對少數產品制定國家標準外(如高純硼酸、高chun冰乙酸、高純氫氟酸等),大部分高純試劑的質量標準還很不統一,在名稱上有高純、特純(Extra Pure)、超純、光譜純等不同叫法。


      根據高純試劑工業專用范圍的不同,可將其分為以下幾種:

      (1)光學與電子學專用高純化學品,即電子級試劑(EIectronicgrade)試劑。

      (2)金屬-氧化物-半導體(Metal-Oxide-Semiconductor)電子工業專用高純化學品,即UP-S級或MOS試劑(讀作:摩斯試劑)。一般用于半導體,電子管等方面,其雜質最高含量為0.01-10ppm,有的可降低到ppb數量級,金屬雜質含量小于1ppb,塵埃等級達到0-2ppb,適合0.35~0.8微米集成電路加工工藝。

      (3)單晶生產用高純化學品。

      (4)光導纖維用高純化學品。

      (5)等離子體質譜純級試劑(ICP-Mass Pure Grade):絕大多數雜質元素含量低于0.1ppb,適合等離子體質譜儀(ICP Mass)日常分析工作。

      (6)等離子體發射光譜純級試劑(ICP Pure Grade):絕大多數雜質元素含量低于1ppb ,適合等離子體發射光譜儀(ICP)日常分析工作。

      (7)原子吸收光譜純級試劑(AA Pure Grade)絕大多數雜質元素含量低于10 ppb ,適合原子吸收光譜儀(AA)日常分析工作。


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